甲酸真空共晶炉

甲酸真空炉简介甲酸真空炉是一种在真空环境下利用甲酸处理材料的设备，可减少氧化和杂质影响，广泛应用于半导体、电子封装和材料研究等领域。工作原理设备通过降低炉内气压减少杂质气体，抑制材料氧化。甲酸在加热时分解产生还原性气体，去除材料表面氧化层，提升焊接性能和表面质量。公司拥有业内知名品牌“FHD”，在甲酸真空炉、气氛烧结炉、超声波键合机等领域拥有深厚的技术积淀。其产品不仅覆盖国内市场，还成功进入日本SHARP等国际企业的供应链。